레티클제조

레티클제조

레티클결함또는패턴분류오류의경우생산웨이퍼상의다수의다이에서복제가능하기때문에오류가없는레티클(포토마스크또는마스크로도알려짐)은높은수준의반도체소자수율을달성하는주요한요소를나타냅니다。레티클은블랭크위에생산됩니다。쿼츠기판이흡수박막을통해증착됩니다。解放军의레티클검사,계측및데이터분석시스템포트폴리오는블랭크,레티클및IC제조업체들이레티클결함과패턴분류오류를파악하여수율리스크를줄이도록지원합니다。

카테고리

涤纶聚酯纤维™6 xx

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涤纶聚酯纤维™6 xx

마스크샵애플리케이션용레티클결함검사시스템

涤纶聚酯纤维™640 e레티클검사제품라인은주요패턴과이물결함을검출하여마스크샵내의193海里패턴레티클과첨단EUV의인증및개발을진행시킵니다。해당검사시스템은다이-투데이터베이스또는다이-투다이모드를활용하여최신7海里및5 nm소자노드에서복잡한OPC구조특성과다양한스택소재를처리하기위해설계되었습니다。涤纶聚酯纤维640 e는레티클제조사이클타임을가속화하는데필요한처리량과결함검출사양을지원하는여러광학및이미지처리개선사항을결합시킵니다。또한涤纶聚酯纤维640 e제품라인은EUV마스크생산에필수적인엄격한청결도요구사항을달성합니다。

응용분야
레티클인증,레티클공정제어,레티클공정장비모니터링,출고레티클품질확인
관련상품

涤纶聚酯纤维640: 10 nm노드및향후노드에서광학및EUV레티클을검사하기위한산업생산표준。

涤纶聚酯纤维630: 1 xnm / 2 xhp광학및EUV레티클을검사하기위한산업생산표준。

涤纶聚酯纤维610: 2 xnm / 3 xhp광학레티클을검사하기위한산업생산표준。

TeraScan™500 xr: 3 xnm / 4 xhp광학레티클을검사하기위한산업생산표준。

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涤纶聚酯纤维™SL6xx

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涤纶聚酯纤维™SL6xx

集成电路晶圆厂애플리케이션을위한레티클결함검사시스템

涤纶聚酯纤维™SL655는입고레티클품질을평가하고생산에사용중및레티클세정후에레티클을재인증하기위해사용되어결함이있는웨이퍼를인쇄하는리스크를감소시킴으로써칩제조업체들이수율을확보하도록지원합니다。明星黄金™기술을보유한涤纶聚酯纤维SL655는10 nm디자인노드및향후노드에서완전한범위의마스크유형(CPL, ILT EUV등)상에서헤이즈성장또는오염등의수율에중대한영향을주는레티클결함및레티클저하를모니터링하기위해필요한민감도를제공합니다。또한涤纶聚酯纤维SL655는산업을선도하는생산처리량수준을보유하여첨단IC디자인노드와관련된증가하는수의레티클을인증하는데필요한신속한사이클타임을지원합니다。

응용분야
레티클재인증,입고레티클품질확인
관련상품

涤纶聚酯纤维SL650: 20 nm디자인노드IC기술을위한레티클검사시스템。

X5.3:≥20 nm디자인노드IC기술을위한중대한영향을미치지않는레티클에대한레티클검사시스템。

类风湿性关节炎(레티클분석기): IC工厂를위한레티클데이터분석시스템으로써자동결함분류,平평면리뷰및결함변화모니터링등의애플리케이션지원합니다。

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FlashScan®

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FlashScan®

레티클블랭크결함검사시스템

FlashScan®211年마스크블랭크결함검사시스템은마스크샵및블랭크제조업체들이광학및EUV光刻애플리케이션의마스크블랭크결함요구사항을충족하도록지원합니다。211年FlashScan시스템은解放军의고감도를비교불가능한수준의검사속도및자동결함분류와결합하여다양한애플리케이션이결과에도달하는시간을줄여줍니다。

응용분야
마스크블랭크제조,마스크블랭크인증,레티클공정제어,레티클공정장비모니터링
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LMS IPRO

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LMS IPRO

레티클패턴등록계측시스템

LMS IPRO7레티클등록계측시스템은7海里디자인노드에서광학레티클및EUV에대한패턴분류성능의빠르고정확한검증을제공하기위해설계되었습니다。LMS IPRO7은레티클패턴분류오류의종합특성화를제공함으로써첨단디자인노드레티클의생산및개발중레티클품질관리및전자빔마스크가공기교정에사용되는데이터를생성합니다。解放军의고유의모델기반계측알고리즘을사용하는LMS IPRO7은다수의온디바이스기능과타겟모두에대해높은정확도로패턴분류오류를측정하여IC工厂내소자오버레이오류에대한레티클관련기여도를감소및특성화하도록합니다。

응용분야
레티클인증,출고레티클품질확인,마스크가공기인증및모니터링,레티클공정모니터링,웨이퍼페터닝제어
관련상품

LMS IPRO6: 10 nm디자인노드를위한마스크계측시스템으로써표준등록마크및온디바이스패턴기능측정을모두지원합니다。

LMS IPRO4: 32 nm / 28 nm디자인노드를위한마스크계측시스템。산업고유의처리역량을보유한LMS IPRO4는4“부터”8치수의마스크를지원합니다。연락처버튼을클릭하면신규및리퍼비시시스템에대한추가정보를보실수있습니다。

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MaskTemp™2

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MaskTemp™2

原位레티클온도측정시스템

MaskTemp™2原位레티클온도측정시스템은전자빔가공기및고온레티클공정단계의모니터링및인증을위해마스크샵에서사용됩니다。마스크를완전히인쇄하려면긴시간(최대24시간)동안극한온도안전성이필요하기때문에는MaskTemp 2전자빔마스크가공기인증과정에서중요한역할을수행합니다。전자빔마스크가공기내에서는MaskTemp 2 24시간동안연속적으로온도데이터를수집하고중대한영향을미칠수있는마스크인쇄전에시스템의온도안정성을확보하기위해필요한데이터를마스크제조업체에게제공합니다。또한面具临时2는후노광베이크특성화,열판온도산포모니터링,열판매칭과기타고온공정애플리케이션을지원하여마스크제조업체가최종레티클품질에영향을줄수있는인쇄후공정온도변화를감소시키고파악하도록도와줍니다。

응용분야

전자빔마스크가공인증,공정개발,공정제어,공정인증,공정모니터링,공정툴인증,공정툴매칭

전자빔마스트가공| 20 - 40°C
후노광베이크| 20 - 140°C

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RDC

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RDC

레티클데이터분석및관리

RDC(레티클결정센터)종합데이터분석및관리시스템은레티클인증을위한다수의解放军레티클검사및계측플랫폼을지원합니다。RDC는자동화결함분류결정을주도하고사이클타임을개선하며수율에영향을줄수있는레티클관련패터닝오류를감소시키는다양한유형의애플리케이션을제공합니다。RDC는필수애플리케이션을제공하는것외로높은수준의신뢰성과유연한서버설정을활용하는중앙데이터관리시스템의역할을담당합니다。

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Klarity®

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Klarity®

자동화결함및수율데이터분석

Klarity®缺陷자동화결함분석및데이터관리시스템은시스템의역할을담당합니다。수율학습주기를가속화시킵니다。Klarity缺陷을위한Klarity®SSA(공간시그니처분석)분석모듈은공정문제를나타내는결함시그니처를자동적으로검출및분류합니다。Klarity®ACE XP첨단수율분석시스템은外事局내그리고外事局에걸쳐수율가속화를위해수율학습을검출,유지및공유하도록지원합니다。Klarity시스템은직관적인결정흐름분석을활용하여엔지니어들이很多분류,리뷰샘플링,결함원인분석,SPC설정및관리와공정사고알림등의애플리케이션을지원하는맞춤형분석을손쉽게수립할수있도록합니다。Klarity缺陷,Klarity SSA및Klarity ACE XP는자동적으로결함검사,분류및리뷰데이터를관련근인및수율분석정보로전환하는外事局전체에걸친수율솔루션을수립합니다。Klarity데이터는IC,패키징,컴파운드세미및HDD제조업체가신속하게시정조치를취하여수율을가속화하고시장출시를앞당길수있도록지원합니다。

응용분야

결함데이터분석,웨이퍼분류,공정및툴공정사고파악,공간시그니처분석,수율분석,수율예측

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