十字线制造

十字线制造

无误差的标线(也称为掩模或掩模)是实现高半导体器件产量的关键元素,因为标线缺陷或图案放置错误可以在生产晶圆的许多模具中复制。磁砖是建立在毛坯上的:用吸收膜沉积的石英基片。KLA的十字线检测、计量和数据分析系统可以帮助空白、十字线和IC制造商识别十字线缺陷和图案放置错误,从而降低成材风险。

类别

涤纶聚酯纤维™6 xx

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

涤纶聚酯纤维™6 xx

掩模车间用掩模缺陷检测系统

泰隆™ 640e网线检测产品线通过检测关键图案和颗粒缺陷,推进了掩模车间前沿EUV和193nm图案网线的开发和鉴定。使用模具到数据库或模具到模具模式,这些检查系统设计用于处理最新7nm和5nm设备节点的广泛堆叠材料和复杂OPC结构特征。Teron 640e集成了多个光学和图像处理增强功能,支持加快十字线制造周期所需的缺陷捕获规格和吞吐量。Teron 640e生产线也达到了EUV口罩生产所需的严格清洁度要求。

应用
网线合格,网线工艺控制,网线工艺设备监控,网线出厂质量检查
相关产品

泰隆640:工业生产标准,用于检验光学和EUV光斑在10nm及以上节点。

泰隆630:1Xnm/2XHP光学和EUV分划板检验的行业生产标准。

泰隆610:2Xnm/3XHP光学分划板检验的行业生产标准。

TeraScan500XR:3Xnm/4XHP光学分划板检验的行业生产标准。

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

涤纶聚酯纤维™SL6xx

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

涤纶聚酯纤维™SL6xx

集成电路制造应用中的十字线缺陷检测系统

泰隆™ SL655用于评估来料分划板的质量,并在生产使用期间和分划板清洗后重新评定分划板,帮助芯片制造商降低印刷缺陷晶片的风险,从而保护产量。明星Teron SL655采用Gold™技术,在10nm设计节点及以上的全系列掩膜类型(ILT、CPL、EUV等)上产生监测网线降解和检测关键产量网线缺陷所需的灵敏度,如雾霾生长或污染。Teron SL655还拥有行业领先的生产吞吐量,支持快速的循环时间,以满足与先进IC设计节点相关的磁片数量的增加。

应用
网线重新鉴定,进线网线质量检查
相关产品

涤纶聚酯纤维SL650:用于20nm设计节点IC技术的十字线检查系统。

X5.3:非关键十字线的十字线检查系统≥20nm设计节点集成电路技术。

类风湿性关节炎(十字线分析仪):用于IC晶圆厂的网状数据分析系统支持诸如自动缺陷分类、光刻平面审查和缺陷进展监测等应用。

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

FlashScan®

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

FlashScan®

网线坯料缺陷检测系统

闪光扫描®211掩模空白缺陷检查系统支持掩模车间和空白制造商满足光学和EUV光刻应用的掩模空白缺陷要求。FlashScan 211系统将其高灵敏度与无与伦比的检查速度和自动缺陷处理相结合,缩短了广泛应用的结果时间。

应用
掩模毛坯制造、掩模毛坯鉴定、掩模工艺控制、掩模工艺设备监控
对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

LMS IPRO

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

LMS IPRO

十字线模式注册计量系统

LMS IPRO7分划板注册计量系统旨在为7nm设计节点的EUV和光学分划板上的图案放置性能提供准确、快速的验证。LMS IPRO7通过提供十字线图案放置误差的综合表征,在开发和生产先进设计节点十字线期间,产生用于电子束掩模写入器校正和十字线质量控制的数据。LMS IPRO7使用KLA专有的基于模型的计量算法,以高精度测量目标和多个设备上模式特征的模式放置误差,从而能够表征和减少IC晶圆厂中与十字线相关的设备覆盖误差。

应用
网线认证,网线出线质量检查,掩模刻印机认证和监控,网线工艺监控,晶片模式控制
相关产品

LMS IPRO6:用于10nm设计节点的掩模计量系统,支持标准注册标记和设备图案特征的测量。

LMS IPRO4:32nm/28nm设计节点的掩模计量系统。LMS IPRO4具有业界独有的灵活处理能力,支持从4英寸到8英寸的掩模尺寸。有关新系统和翻新系统的更多信息,请单击“联系我们”按钮。

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

马斯克特姆™ 2.

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

马斯克特姆™ 2.

现场十字线温度测量系统

耶稣受难节™ 2掩模车间使用现场十字线温度测量系统对电子束写入机和高温十字线工艺步骤进行鉴定和监控。MaskTemp 2在电子束掩模写入器的鉴定中起着关键作用,因为完全写入掩模所需的延长时间(最多24小时)内需要极端温度稳定性。在电子束掩模写入器内部,MaskTemp 2连续24小时收集温度数据,为掩模制造商提供在写入关键掩模之前确保系统热稳定性所需的数据。掩模温度2还支持曝光后烘焙特性、热板温度均匀性监测、热板匹配和其他高温工艺应用,帮助掩模制造商识别和减少影响最终掩模质量的写后工艺热变化。

应用
电子束掩模机鉴定,工艺开发,工艺控制,工艺鉴定,工艺监控,工艺工具鉴定,工艺工具匹配

电子束掩模写入| 20-40°C
暴露后烘烤| 20-140°C
对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

克劳利®

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

克劳利®

自动缺陷和成品率数据分析

克劳利®缺陷自动分析和数据管理系统通过实时漂移识别,帮助晶圆厂实现更快的良率学习周期。克劳利®Klarity缺陷的SSA(空间特征分析)分析模块提供了指示过程问题的缺陷特征的自动检测和分类。克劳利®ACE XP高级产量分析系统帮助晶圆厂在晶圆厂内部和晶圆厂之间获取、保留和分享产量学习,以加速产量。Klarity系统利用直观的决策流分析,允许工程师轻松创建定制分析,以支持诸如批次处理、审查采样、缺陷源分析、SPC设置和管理以及偏差通知等应用。Klarity缺陷、Klarity SSA和Klarity ACE XP形成了一个工厂范围的成品率解决方案,可自动将缺陷检查、分类和审查数据减少到相关的根本原因和成品率分析信息。Klarity数据有助于IC、封装、复合材料和硬盘制造商更快地采取纠正措施,从而加快产量和更好的上市时间。

应用

缺陷数据分析、晶圆配置、工艺和刀具偏移识别、空间特征分析、成品率分析、成品率预测

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

RDC

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

RDC

十字线数据分析与管理

RDC(网线决策中心)综合数据分析和管理系统支持多个用于网线鉴定的KLA网线检查和计量平台。RDC提供了一系列广泛的应用程序,这些应用程序可以驱动自动缺陷处理决策,提高周期时间,并减少可能影响产量的与十字线相关的图案错误。除了提供关键应用程序外,RDC还利用高可靠性、灵活的服务器配置作为中央数据管理系统。

对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们

准备好开始了吗?

联系我们

你确定吗?

您已选择查看由Google Translate翻译的此网站。
KLA中国版也有相同的内容,但翻译做了改进。

你想不想去KLA中国?


您已选择查看由谷歌翻译翻译的此网站。
心理契约中国的内容与英文网站相同并改进了翻译。

你想访问克拉中国吗?

如果您目前是KLA员工,请通过我的访问访问KLA内部网申请。

退出

Baidu