图案化模拟
图案化模拟
KLA的Patterning仿真系统使用先进的模型来探索提出的光刻和图案化技术的关键特征设计，可制造性和过程限制性产量。我们的图案化仿真软件允许研究人员评估先进的图案化技术，例如EUV光刻和多种图案化技术，而无需使用实验材料和原型工艺设备印刷数百个测试晶片的时间和费用。
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真正的虚拟图案化
Poldith™光刻和图案化仿真解决方案采用创新模型来准确模拟设计如何在晶圆上打印。Pollith由IC，LED和MEMS制造商，扫描仪公司，轨道公司，面具制造商，材料提供商和研究联盟用于成本有效地评估图案化技术，包括EUV光刻和多种图案化技术。作为所有图案化工艺的批判性建模工具，Pollith有助于LiThographers了解模式印刷如何受多个光刻变量的影响，同时显着减少识别可行解决方案所需的时间。
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先进的图案化仿真，晶圆形貌建模相关产品
Poldith 2020B.：基于Windows的物理光刻模拟器，能够确定和随机输出。PROLITH 2020b提供严格的掩模形貌、晶圆形貌、光刻胶建模和SEM计量处理，以实现定量准确的输出。
Poldith Enterprise 2020B.：core PROLITH 2020b的所有功能，加上适用于大型模拟作业的可扩展Linux引擎，例如EUV光刻中“黑天鹅”事件的随机模拟或需要运行数千个掩模剪辑的任务。一个可选的增强溶解模型，可准确描述NTD的行为（负色调显影）提供化学放大电阻。